Морфология магнетронных нанопленок из h-BN
https://doi.org/10.21869/9/2223-1528-2026-16-2-90-104
Аннотация
Цель – характеризация нанопленок BN из мишени h-BN, формируемых методом реактивного высокочастотного магнетронного распыления в смеси Ar + N2 на различных подложках.
Методы. Реактивное высокочастотное магнетронное распыление нитрида бора на подложки из плавленного кварца, кремния, сапфира, ситалла, поликора и полиамидных тканей осуществлялось в зависимости от изменений управляющих параметров распыления (мощность 50 – 80 Вт и время 1800 – 2700 с, температура твердотельных подложек ~ 430 К). Магнетронные нанопленки изучены методами атомно-силовой микроскопии, сканирующей и просвечивающей (включая режим высокого разрешения) электронной микроскопии, микрорентгеноспектрального энергодисперсионного анализа, рентгенофазового анализа, комбинационного (рамановского) рассеяния света, инфракрасной Фурье-спектроскопии, спектрофотометрии оптического поглощения. Выполнено моделирование оптических характеристик в рамках теории функционала плотности в приближении рандомизированных фаз.
Результаты. Прецизионно изучены особенности наноструктурирования и измерены характерные размеры наноструктур в формируемых МНП из нитрида бора, по данным ЭДА подтверждена стехиометричность элементного состава МНП на всех подложках, по цветности отраженного света установлена линейность роста толщины в зависимости от мощности и времени магнетронного распыления. По данным КРС и РФА установлено, что в процессе РВЧ МР BN формируются поликристаллические МНП, с включениями гексагонального h-BN и кубического c-BN и свободного бора, кристалличность h-BN, в МНП возрастает с ростом температуры подложки начиная с Tп ~ 600 К. Проведенные модельные расчеты оптических характеристик согласуются с спектрофотометрическими измерениями коэффициента поглощения и подтверждают полиморфизм МНП.
Заключение. Комплексная характеризация магнетронных нанопленок из мишени h-BN на подложках из кремния, сапфира, ситала, поликора и полиамидных тканей, формируемых методом РВЧ МР, показала, что на процессы их наноструктурирования и фазовый состав наиболее существенно влияет Tп.
Ключевые слова
Об авторах
А. П. КузьменкоРоссия
Кузьменко Александр Павлович, доктор физико-математических наук, профессор, главный научный сотрудник Регионального центра нанотехнологий
ул. 50 лет Октября, д. 94, г. Курск 305040
В. В. Родионов
Россия
Родионов Владимир Викторович, кандидат физико-математических наук, старший научный сотрудник Регионального центра нанотехнологий
ул. 50 лет Октября, д. 94, г. Курск 305040
А. И. Колпаков
Россия
Колпаков Артём Игоревич, аспирант
ул. 50 лет Октября, д. 94, г. Курск 305040
Е. Ю. Орлов
Россия
Орлов Евгений Юрьевич, аспирант
ул. 50 лет Октября, д. 94, г. Курск 305040
А. Д. Паньков
Россия
Паньков Александр Дмитриевич, студент кафедры нанотехнологий, микроэлектроники, общей и прикладной физики
ул. 50 лет Октября, д. 94, г. Курск 305040
М. А. Пугачевский
Россия
Пугачевский Максим Александрович, доктор физико-математических наук, ведущий научный сотрудник лаборатории нанооптики и плазмоники Центра фотоники и двумерных материалов
ул. Керченская, д.1 А/1, г. Москва 117303
А. В. Сюй
Россия
Сюй Александр Вячеславович, доктор физико-математических наук, главный научный сотрудник лаборатории нанооптики и плазмоники Центра фотоники и двумерных материалов
ул. Керченская, д.1 А/1, г. Москва 117303
Список литературы
1. Sami M. Ibn Shamsah. Thermoelectric materials: a scientometric analysis of recent advancements and future research directions // Energies. 2024. Vol. 17, no. 19. P. 5002. https://doi.org/10.3390/en17195002.
2. Emerging applications of elemental 2D materials / N.R. Glavin, R. Rao, V. Varshney, E. Bianco, A. Apte, A. Roy [et al.] // Advanced materials. 2019. Vol. 32, no. 7. P. 1904302. https://doi.org/10.1002/adma.201904302.
3. Shams S., Bindhu B. Recent advancements in hybrid two dimensional materials for energy applications // ES energy and environment. 2024. Vol. 24. P. 1160. https://doi.org/10.30919/esee1160.
4. Boron nitride memristors: from mechanism and device optimization to integrated applications / X. Chen, T.-T. Guo, X. Chen, H.-W. Tao, S.-H. Niu, X.-F. Song [et al.] // Nanoscale. 2025. Vol. 17. P. 24830-24859. https://doi.org/10.1039/D5NR03494A.
5. Laturia A., Van de Put M.L., Vandenberghe W.G. Dielectric properties of hexagonal boron nitride and transition metal dichalcogenides: from monolayer to bulk // npj 2D Materials and Applications. 2018. Vol. 2, no. 1. P. 6. https://doi.org/10.1038/s41699-018-0050-x.
6. Ultralow-dielectric-constant amorphous Boron nitride / S. Hong, C.-S. Lee, M.-H. Lee, Y. Lee, K.Y. Ma, G. Kim [et al.] // Nature. 2020. Vol. 582. P. 511-514. https://doi.org/10.1038/s41586-020-2375-9.
7. Hexagonal Boron nitride for next-generation photonics and electronics / S. Moon, J. Kim, J. Park, S. Im, J. Kim, I. Hwang [et al.] // Advanced Materials. 2023. Vol. 35, no. 4. P. 2204161. https://doi.org/10.1002/adma.202204161.
8. Naclerio A.E., Kidambi P.R. A review of scalable hexagonal Boron nitride (h-BN) synthesis for present and future applications // Advanced Materials. 2023. Vol. 35, no. 6. P. 2207374. https://doi.org/10.1002/adma.202207374.
9. Outstanding thermal conductivity of single atomic layer isotope-modified Boron nitride / Q. Cai, D. Scullion, W. Gan, A. Falin, P. Cizek, S. Liu [et al.] // Physical Review Letters. 2020. Vol. 125. P. 085902. https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.125.085902.
10. Thermal transport properties of Boron nitride based materials: a review / V. Sharma, H.L. Kagdada, Pr. K. Jha, P. Śpiewak, K.J. Kurzydłowski // Renewable and sustainable energy reviews. 2020. Vol. 120. P. 109622. https://doi.org/10.1016/j.rser.2019.109622.
11. Давыдов С.Ю., Посредник О.В. Особенности фактора термоэлектрической мощности капсулированных структур, образованных двумерными слоями // Физика твердого тела. 2023. Т. 65, № 4. С. 652-655. https://doi.org/10.21883/FTT.2023.04.55305.15.
12. Tuning thermoelectric properties of graphene/boron nitride heterostructures / L.A. Algharagholy, Q. Al-Galiby, H.A. Marhoon, H. Sadeghi, H.M. Abduljalil, C.J. Lambert // Nanotechnology. 2015. Vol. 26. P. 475401. https://doi.org/10.1088/0957-4484/26/47/475401.
13. Enhanced thermoelectric properties of Bi2Te2.7Se0.3/hexagonal BN composites and optimized modules for power generation / J. Guo, Q. Ma, K. Luo, W. Qiu, H. Chen, P. Qian [et al.] // Ceramics international. 2024. Vol. 50, no. 9. P. 15209-15217. https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2024.01.440.
14. Tran V.-T., Saint-Martin J., Dollfus P. High thermoelectric performance in graphene nanoribbons by graphene/BN interface engineering // Nanotechnology. 2015. Vol. 26, no. 49. P. 495202. https://doi.org/10.1088/0957-4484/26/49/495202.
15. Impact of Boron nitride on the thermoelectric properties and service stability of Cu2-xSe / Z. Lin, Y. Guo, J. Bai, A. Hong, C. Li, Y. Wu [et al.] // ACS Applied materials & interfaces. 2024. Vol. 17, no. 1. P. 1922-1930. https://doi.org/10.1021/acsami.4c16857.
16. Synthesis and characterization of Boron carbon nitride films by radio frequency magnetron sputtering / Z.F. Zhou, I. Bello, M.K. Lei, K.Y. Li, C.S. Lee, S.T. Lee // Surface and coatings technology. 2000. Vol. 128-129, no. 1. P. 334-340. https://doi.org/10.1016/S0257-8972(00)00600-9.
17. Growth mechanisms of hBN crystalline nanostructures with rf sputtering deposition: challenges, opportunities, and future perspectives / D.-Q. Hoang, N.-H. Vu, T.-Q. Nguyen, T.-D. Hoang [et al.] // Physica scripta. 2023. Vol. 98, no. 4. P.042001. https://doi.org/10.1088/1402-4896/acbe7b.
18. Размерные особенности и механизмы роста магнетронных наноплёнок нитрида тантала при высокочастотном реактивном формировании / А.П. Кузьменко, И.С. Кашкин, А.И. Колпаков, И.С. Сапрыкин // Известия Юго-Западного государственного университета. Серия: Техника и технологии. 2025. Т. 15, № 4. С. 65-81. https://doi.org/10.21869/2223-1528-2025-15-4-65-81.
19. Perottoni C.A., Zorzi J.E. Thermal expansion of hexagonal Boron nitride / // Physica status solidi (b). 2024. Vol. 262, no. 2. P. 2400409. https://doi.org/10.1002/pssb.202400409.
20. Unidirectional domain growth of hexagonal Boron nitride thin films / A. Biswas, Q. Ruan, F. Lee, C. Li, S.A. Iyengar, A.B. Puthirath [et al.] // Applied materials today. 2023. Vol. 30. P. 101734. https://doi.org/10.1016/j.apmt.2023.101734.
21. Oriented lateral growth of two-dimensional materials on c-plane sapphire / J.-H. Fu, J. Min, C.-K. Chang, C.-C. Tseng, Q. Wang, H. Sugisaki [et al.] // Nature nanotechnology. 2023. Vol. 18. P. 1289-1294. https://doi.org/10.1038/s41565-023-01445-9.
22. Haque A., Narayan J. Conversion of h-BN into c-BN for tuning optoelectronic properties // Materials Advances. 2020. Vol. 1. P. 830-836. https://doi.org/10.1039/D0MA00008F.
23. Strain induced bandgap engineering in wafer-scale hexagonal Boron nitride thick epitaxial films for broadband solar-blind ultraviolet detection / R. An, X. Fang, W. Yao, D. Zhao, Zhongyuan Han, Z. Long [et al.] // Advanced Optical Material. 2026. Vol. 14, is. 25. P. e71362. https://doi.org/10.1002/adom.71362.
24. Amorphous Boron nitride: synthesis, properties and device application / S.M. Sattari-Esfahlan, M. Saeed, J.J. Mukkath, M. Ji-Yun, H. Sang-Hwa, J. Houk [et al.] // Nano convergence. 2025. Vol. 12. P. 22. https://doi.org/10.1186/s40580-025-00486-1.
25. Quantum espresso: a modular and open-source software project for quantum simulations of materials / P. Giannozzi, S. Baroni, N. Bonini, M. Calandra, R. Car, C. Cavazzoni [et al.] // Journal of physics: condensed matter. 2009. Vol. 21, no. 39. P. 395502. https://doi.org/10.1088/0953-8984/21/39/395502.
Рецензия
Для цитирования:
Кузьменко А.П., Родионов В.В., Колпаков А.И., Орлов Е.Ю., Паньков А.Д., Пугачевский М.А., Сюй А.В. Морфология магнетронных нанопленок из h-BN. Известия Юго-Западного государственного университета. Серия: Техника и технологии. 2026;16(2):90-104. https://doi.org/10.21869/9/2223-1528-2026-16-2-90-104
For citation:
Kuzmenko A.P., Rodionov V.V., Kolpakov A.I., Orlov E.Yu., Pankov A.D., Pugachevsky M.A., Suyu A.V. Morphology of magnetron nanofilms from h-Boron nitride. Proceedings of the Southwest State University. Series: Engineering and Technology. 2026;16(2):90-104. (In Russ.) https://doi.org/10.21869/9/2223-1528-2026-16-2-90-104
JATS XML
